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氧化膜外延设备 专利
专利类型: 实用新型, 申请日期: 2001-07-11, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  咎育德;  林兰英
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Chen NF;  Zhong XR;  Lin LY;  Zhang M;  Wang YS;  Bai XW;  Zhao J;  Chen NF,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Lab Semicond Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Lin F;  Wu J;  Jiang WH;  Cui H;  Wang ZG;  Lin F,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Lab Semicond Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  贾锐;  江德生;  陈京好;  谭平恒;  孙宝权;  张敬波;  林源
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  彭长涛;  陈诺夫;  林兰英;  柯俊
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  额尔敦朝鲁;  李树深;  肖景林
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  邹德恕;  徐晨;  陈建新;  史辰;  杜金玉;  高国;  沈光地;  黄大定;  李建平;  林兰英
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  刘文楷;  林世鸣;  武术;  朱家廉;  高俊华;  渠波;  陆建祖;  廖奇为;  邓晖;  陈弘达
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  胡国新;  孙殿照;  王晓亮;  刘宏新;  刘成海;  曾一平;  李晋闽;  林兰英
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  孙国胜;  罗木昌;  王雷;  朱世荣;  李晋闽;  林兰英
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