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中国科学院半导体研究所机构知识库
Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
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研究单元&专题
中国科学院半导体研究... [5]
作者
江德生 [1]
朱建军 [1]
张书明 [1]
赵德刚 [1]
文献类型
期刊论文 [3]
会议论文 [2]
发表日期
2006 [5]
语种
英语 [5]
出处
ADVANCED M... [1]
ADVANCED M... [1]
MATERIALS ... [1]
SEMICONDUC... [1]
Silicon Ca... [1]
资助项目
收录类别
SCI [3]
CPCI-S [2]
资助机构
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Portuguese... [1]
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共5条,第1-5条
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发表日期:2006
语种:英语
专题:中国科学院半导体研究所(2009年前)
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Homoepitaxial growth and characterization of 4H-SiC epilayers by low-pressure hot-wall chemical vapor deposition
会议论文
Silicon Carbide and Related Materials 2005丛书标题: MATERIALS SCIENCE FORUM, Pittsburgh, PA, SEP 18-23, 2005
作者:
Sun, GS (Sun, Guosheng)
;
Ning, J (Ning, Jin)
;
Gong, QC (Gong, Quancheng)
;
Gao, X (Gao, Xin)
;
Wang, L (Wang, Lei)
;
Liu, XF (Liu, Xingfang)
;
Zeng, YP (Zeng, Yiping)
;
Li, JM (Li, Jinmin)
;
Sun, GS, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China.
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浏览/下载:1368/203
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提交时间:2010/03/29
Homoepitaxial Growth
Low-pressure Hot-wall Cvd
Structural And Optical Characteristics
Intentional Doping
Schottky Barrier Diodes
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Zhang S
;
Hu Z
;
Raniero L
;
Liao X
;
Ferreira I
;
Fortunato E
;
Vilarinho P
;
Perreira L
;
Martins R
;
Zhang, S, Univ Nova Lisboa, Fac Ciencias & Tecnol, Dept Ciencia Mat, Campus Caparica, P-2829516 Caparica, Portugal. E-mail: sz@uninova.pt
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提交时间:2010/04/11
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Sun GS (Sun G. S.)
;
Liu XF (Liu X. F.)
;
Gong QC (Gong Q. C.)
;
Wang L (Wang L.)
;
Zhao WS (Zhao W. S.)
;
Li JY (Li J. Y.)
;
Zeng YP (Zeng Y. P.)
;
Li JM (Li J. M.)
;
Sun, GS, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: gshsun@red.semi.ac.cn
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提交时间:2010/04/11
The study of high temperature annealing of a-SiC : H films
会议论文
ADVANCED MATERIALS FORUM III丛书标题: MATERIALS SCIENCE FORUM, Aveiro, PORTUGAL, MAR 20-23, 2005
作者:
Zhang, S
;
Hu, Z
;
Raniero, L
;
Liao, X
;
Ferreira, I
;
Fortunato, E
;
Vilarinho, P
;
Perreira, L
;
Martins, R
;
Zhang, S, Univ Nova Lisboa, Fac Ciencias & Tecnol, Dept Ciencia Mat, Campus Caparica, P-2829516 Caparica, Portugal. 电子邮箱地址: sz@uninova.pt
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提交时间:2010/03/29
Silicon Carbide
High Temperature Annealing
Thin Film
Silicon
Pecvd
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Chen J
;
Wang JF
;
Wang H
;
Zhu JJ
;
Zhang SM
;
Zhao DG
;
Jiang DS
;
Yang H
;
Jahn U
;
Ploog KH
;
Chen, J, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: jchen@red.semi.ac.cn
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提交时间:2010/04/11