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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yang XG;  Yang T;  Wang KF;  Ji HM;  Ni HQ;  Niu ZC;  Wang ZG;  Yang, XG, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. tyang@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yang XG;  Yang T;  Wang KF;  Gu YX;  Ji HM;  Xu PF;  Ni HQ;  Niu ZC;  Wang XD;  Chen YL;  Wang ZG;  Yang, T, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China. tyang@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zheng XH (Zheng X. H.);  Huang AP (Huang A. P.);  Xiao ZS (Xiao Z. S.);  Yang ZC (Yang Z. C.);  Wang M (Wang M.);  Zhang XW (Zhang X. W.);  Wang WW (Wang W. W.);  Chu PK (Chu Paul K.);  Huang, AP, BeihangUniv, DeptPhys, Beijing 100191, Peoples R China. 电子邮箱地址: aphuang@buaa.edu.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yang ZC (Yang Z. C.);  Huang AP (Huang A. P.);  Zheng XH (Zheng X. H.);  Xiao ZS (Xiao Z. S.);  Liu XY (Liu X. Y.);  Zhang XW (Zhang X. W.);  Chu PK (Chu Paul K.);  Wang WW (Wang W. W.);  Yang, ZC, BeihangUniv, DeptPhys, Beijing 100191, Peoples R China. 电子邮箱地址: aphuang@buaa.edu.cn
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一种H2微刻蚀进行碳化硅离子激活的方法 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2016-08-30
发明人:  刘胜北;  何志;  刘斌;  刘兴昉;  杨香;  樊中朝;  王晓峰;  王晓东;  赵永梅;  杨富华;  孙国胜;  曾一平
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一种碳化硅欧姆接触电极及其制作方法 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2016-09-29
发明人:  刘胜北;  何志;  刘斌;  杨香;  刘兴昉;  张峰;  王雷;  田丽欣;  刘敏;  申占伟;  赵万顺;  樊中朝;  王晓峰;  王晓东;  赵永梅;  杨富华;  孙国胜;  曾一平
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一种去除碳化硅等离子体刻蚀形成的刻蚀损伤层的方法 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2016-09-28
发明人:  刘胜北;  何志;  刘斌;  刘兴昉;  杨香;  樊中朝;  王晓峰;  王晓东;  赵永梅;  杨富华;  孙国胜;  曾一平
Adobe PDF(568Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：530/3  |  提交时间：2016/09/28