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在硅衬底上磁控溅射制备铁磁性锰硅薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-12-27, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
Inventors:  刘力锋;  陈诺夫;  尹志岗;  杨霏;  柴春林
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一种制备三元高K栅介质材料的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-05-31, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
Inventors:  李艳丽;  陈诺夫;  刘立峰;  尹志刚;  杨菲;  柴春林
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Si 和Ge 基稀磁半导体的研究 学位论文
, 北京: 中国科学院半导体研究所, 2005
Authors:  刘力锋
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无权访问的条目 期刊论文
Authors:  刘力锋;  陈诺夫;  尹志岗;  杨霏;  周剑平;  张富强
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无权访问的条目 期刊论文
Authors:  刘力锋;  陈诺夫;  张富强;  陈晨龙;  李艳丽;  杨少延;  刘志凯
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无权访问的条目 期刊论文
Authors:  刘力锋;  陈诺夫;  张富强;  陈晨龙;  李艳丽;  杨少延;  刘志凯
Adobe PDF(213Kb)  |  Favorite  |  View/Download：935/352  |  Submit date：2010/11/23