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用SF6—N2混合气的反应离子刻蚀制作WSix微米结构 期刊论文
半导体学报, 1990, 卷号: 11, 期号: 5, 页码: 355
Authors:  程美乔;  傅绍云;  李建中
Adobe PDF(1323Kb)  |  Favorite  |  View/Download:631/84  |  Submit date:2010/11/23