中文版 | English

在结果中检索

SEMI OpenIR

浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助

限定条件    
已选(0)清除 条数/页：   排序方式：
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang S;  Hu Z;  Raniero L;  Liao X;  Ferreira I;  Fortunato E;  Vilarinho P;  Perreira L;  Martins R;  Zhang, S, Univ Nova Lisboa, Fac Ciencias & Tecnol, Dept Ciencia Mat, Campus Caparica, P-2829516 Caparica, Portugal. E-mail: sz@uninova.pt
Adobe PDF(649Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：913/238  |  提交时间：2010/04/11
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Sun GS (Sun G. S.);  Liu XF (Liu X. F.);  Gong QC (Gong Q. C.);  Wang L (Wang L.);  Zhao WS (Zhao W. S.);  Li JY (Li J. Y.);  Zeng YP (Zeng Y. P.);  Li JM (Li J. M.);  Sun, GS, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: gshsun@red.semi.ac.cn
Adobe PDF(233Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1168/503  |  提交时间：2010/04/11
The study of high temperature annealing of a-SiC : H films 会议论文
ADVANCED MATERIALS FORUM III丛书标题: MATERIALS SCIENCE FORUM, Aveiro, PORTUGAL, MAR 20-23, 2005
作者:  Zhang, S;  Hu, Z;  Raniero, L;  Liao, X;  Ferreira, I;  Fortunato, E;  Vilarinho, P;  Perreira, L;  Martins, R;  Zhang, S, Univ Nova Lisboa, Fac Ciencias & Tecnol, Dept Ciencia Mat, Campus Caparica, P-2829516 Caparica, Portugal. 电子邮箱地址: sz@uninova.pt
Adobe PDF(1210Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1430/209  |  提交时间：2010/03/29
Silicon Carbide  High Temperature Annealing  Thin Film  Silicon  Pecvd