| 氮化镓基雪崩型探测器及其制作方法 |
| 刘文宝; 孙苋; 赵德刚; 刘宗顺; 张书明; 朱建军; 王辉; 杨辉
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专利权人 | 中国科学院半导体研究所
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公开日期 | 2011-08-30
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授权国家 | 中国
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专利类型 | 发明
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摘要 | 一种氮化镓基雪崩型探测器及其制作方法,其中该氮化镓基雪崩型探测器包括:一衬底;一N型掺杂的GaN欧姆接触层制作在衬底上;一非故意掺杂GaN吸收层制作在N型掺杂的GaN欧姆接触层上,该非故意掺杂GaN吸收层的面积小于N型掺杂的GaN欧姆接触层的面积;一N型掺杂的Al组分渐变的AlGaN层制作在非故意掺杂的GaN吸收层上;一非故意掺杂AlGaN雪崩倍增层制作在N型掺杂的Al组分渐变的AlGaN层上;一P型掺杂的AlGaN欧姆接触层制作在非故意掺杂AlGaN雪崩倍增层上;一N型欧姆接触电极制作在N型掺杂的GaN欧姆接触层上;一P型欧姆接触电极制作在P型掺杂的AlGaN欧姆接触层上。 |
部门归属 | 集成光电子学国家重点实验室
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专利号 | CN200910077383.1
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语种 | 中文
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专利状态 | 公开
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申请号 | CN200910077383.1
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专利代理人 | 汤保平
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文献类型 | 专利
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条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22069
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专题 | 集成光电子学国家重点实验室
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推荐引用方式 GB/T 7714 |
刘文宝,孙苋,赵德刚,等. 氮化镓基雪崩型探测器及其制作方法. CN200910077383.1.
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