SEMI OpenIR  > 集成光电子学国家重点实验室
氮化镓基雪崩型探测器及其制作方法
刘文宝; 孙苋; 赵德刚; 刘宗顺; 张书明; 朱建军; 王辉; 杨辉
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2011-08-30
授权国家中国
专利类型发明
摘要一种氮化镓基雪崩型探测器及其制作方法,其中该氮化镓基雪崩型探测器包括:一衬底;一N型掺杂的GaN欧姆接触层制作在衬底上;一非故意掺杂GaN吸收层制作在N型掺杂的GaN欧姆接触层上,该非故意掺杂GaN吸收层的面积小于N型掺杂的GaN欧姆接触层的面积;一N型掺杂的Al组分渐变的AlGaN层制作在非故意掺杂的GaN吸收层上;一非故意掺杂AlGaN雪崩倍增层制作在N型掺杂的Al组分渐变的AlGaN层上;一P型掺杂的AlGaN欧姆接触层制作在非故意掺杂AlGaN雪崩倍增层上;一N型欧姆接触电极制作在N型掺杂的GaN欧姆接触层上;一P型欧姆接触电极制作在P型掺杂的AlGaN欧姆接触层上。
部门归属集成光电子学国家重点实验室
专利号CN200910077383.1
语种中文
专利状态公开
申请号CN200910077383.1
专利代理人汤保平
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22069
专题集成光电子学国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
刘文宝,孙苋,赵德刚,等. 氮化镓基雪崩型探测器及其制作方法. CN200910077383.1.
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