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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Tongay, S;  Sahin, H;  Ko, C;  Luce, A;  Fan, W;  Liu, K;  Zhou, J;  Huang, YS;  Ho, CH;  Yan, JY;  Ogletree, DF;  Aloni, S;  Ji, J;  Li, SS;  Li, JB;  Peeters, FM;  Wu, JQ
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Miao MS (Miao, M. S.);  Yan Q (Yan, Q.);  Van de Walle CG (Van de Walle, C. G.);  Lou WK (Lou, W. K.);  Li LL (Li, L. L.);  Chang K (Chang, K.)
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一种低密度InAs量子点的分子束外延生长方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910235334.6, 公开日期: 2011-08-30
发明人:  牛智川;  倪海桥;  王海莉;  贺继方;  朱岩;  李密峰;  王鹏飞;  黄社松;  熊永华
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在衬底上生长异变缓冲层的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN102194671A, 公开日期: 2012-08-29, 2011-09-21, 2012-08-29
发明人:  贺继方;  尚向军;  倪海桥;  王海莉;  李密峰;  朱岩;  王莉娟;  喻颖;  贺正宏;  徐应强;  牛智川
Adobe PDF(309Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1503/245  |  提交时间：2012/08/29