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Influence of heated catalyzer on thermal distribution of substrate in HWCVD system 会议论文
THIN SOLID FILMS, 430 (1-2), DENVER, COLORADO, SEP 10-13, 2002
作者:  Zhang Q;  Zhu M;  Wang L;  Liu E;  Zhu M Chinese Acad Sci Dept Phys Grad Sch POB 3908 Beijing 100039 Peoples R China.
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Amorphous-silicon  Deposition  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang Q;  Zhu M;  Wang L;  Liu E;  Zhu M,Chinese Acad Sci,Dept Phys,Grad Sch,POB 3908,Beijing 100039,Peoples R China.
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Structural evaluation of polycrystalline silicon thin films by hot-wire-assisted PECVD 会议论文
THIN SOLID FILMS, 395 (1-2), KANAZAWA, JAPAN, NOV 14-17, 2000
作者:  Feng Y;  Zhu M;  Liu F;  Liu J;  Han H;  Han Y;  Zhu M Chinese Acad Sci Grad Sch Dept Phys POB 3908 Beijing 100039 Peoples R China.
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Poly-si  Structure  Hot-wire  Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (Pecvd)  Chemical-vapor-deposition  Microcrystalline Silicon  Hydrogen  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Feng Y;  Zhu M;  Liu F;  Liu J;  Han H;  Han Y;  Zhu M,Chinese Acad Sci,Grad Sch,Dept Phys,POB 3908,Beijing 100039,Peoples R China.
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