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单结铟镓氮太阳能电池结构及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-07-30, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  肖红领;  杨翠柏;  胡国新;  冉学军;  王翠梅;  张小宾;  李建平;  李晋闽
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生长氮化铟单晶薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-07-30, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  肖红领;  胡国新;  杨翠柏;  冉学军;  王翠梅;  张小宾;  李建平;  李晋闽
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氮化镓基双异质结场效应晶体管结构及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-07-17, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  马志勇;  冉学军;  肖红领;  王翠梅;  胡国新;  唐健;  罗卫军
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氮化镓基异质结场效应晶体管结构及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-03-12, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  马志勇;  王晓亮;  冉军学;  胡国新;  肖红领;  王翠梅;  罗卫军
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一种对气体传感器或半导体器件性能进行测试的系统 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-03-12, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  王新华;  冯春;  王保柱;  马志勇;  王军喜;  胡国新;  肖红领;  冉军学;  王翠梅
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宽带隙氮化镓基异质结场效应晶体管结构及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-03-05, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  马志勇;  胡国新;  肖红领;  冉军学;  王翠梅;  罗卫军
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Low threading-dislocation-density Ge film on Si grown on a pitting Ge buffer layer 会议论文
2008 5TH IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON GROUP IV PHOTONICS, Sorrento, ITALY, SEP 17-19, 2008
作者:  Cheng BW;  Xue HY;  Hu D;  Han GQ;  Zeng YG;  Bai AQ;  Xue CL;  Luo LP;  Zuo YH;  Wang QM;  Cheng, BW, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, Beijing 100083, Peoples R China.
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Sige/si(100) Epitaxial-films  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu JG;  Yeo YK;  Wang YX;  Xue LF;  Wang DW;  Rong WF;  Zhou LY;  Xiao GX;  Yu XJ;  Cheng TH;  Liu JG Nanyang Technol Univ Sch Elect & Elect Engn Singapore Singapore. E-mail Address: jgliu@ntu.edu.sg;  ykyeo@ieee.org;  Wangyx@i2r.a-star.edu.sg;  lfxue@semi.ac.cn;  Wang0365@ntu.edu.sg;  wfrong@i2r.a-star.edu.sg;  Lzhou@i2r.a-star.edu.sg;  Egxxiao@ntu.edu.sg;  Ethcheng@ntu.edu.sg
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  周蓉;  孙宝权;  阮学忠;  甘华东;  姬扬;  王玮竹;  赵建华
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  冯春;  王晓亮;  王新华;  肖红领;  王翠梅;  胡国新;  冉军学;  王军喜
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