用于金属有机化合物化学气相沉积设备反应室的进气顶盘
王晓亮; 殷海波; 肖红领; 姜丽娟; 冯春
专利权人中国科学院半导体所
公开日期2016-09-29
授权国家中国
专利类型发明
学科领域半导体材料
申请日期2015-01-05
申请号CN201510002676.9
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27632
专题中科院半导体材料科学重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
王晓亮,殷海波,肖红领,等. 用于金属有机化合物化学气相沉积设备反应室的进气顶盘.
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