用于金属有机化合物化学气相沉积设备反应室的进气顶盘 | |
王晓亮; 殷海波; 肖红领; 姜丽娟; 冯春 | |
专利权人 | 中国科学院半导体所 |
公开日期 | 2016-09-29 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
学科领域 | 半导体材料 |
申请日期 | 2015-01-05 |
申请号 | CN201510002676.9 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27632 |
专题 | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王晓亮,殷海波,肖红领,等. 用于金属有机化合物化学气相沉积设备反应室的进气顶盘. |
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用于金属有机化合物化学气相沉积设备反应室(700KB) | 限制开放 | 使用许可 | 请求全文 |
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