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一种在硅衬底上生长无裂纹Ⅲ族氮化物的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-08-30, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  吴洁君;  韩修训;  李杰民;  黎大兵;  陆沅;  王晓晖
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wu JJ (Wu Jiejun);  Han XX (Han Xiuxun);  Li JM (Li Jiemin);  Wei HY (Wei Hongyuan);  Cong GW (Cong Guangwei);  Liu XL (Liu Xianglin);  Zhu QS (Zhu Qinsheng);  Wang ZG (Wang Zhanguo);  Jia QJ (Jia Quanjie);  Guo LP (Guo Liping);  Hu TD (Hu Tiandou);  Wang HH (Wang Huanhua);  Wu, JJ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: jiejunw@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Cong GW;  Peng WQ;  Wei HY;  Han XX;  Wu JJ;  Liu XL;  Zhu QS;  Wang ZG;  Lu JG;  Ye ZZ;  Zhu LP;  Qian HJ;  Su R;  Hong CH;  Zhong J;  Ibrahim K;  Hu TD;  Cong, GW, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: gwcong@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Cong GW;  Peng WQ;  Wei HY;  Liu XL;  Wu JJ;  Han XX;  Zhu QS;  Wang ZG;  Ye ZZ;  Lu JG;  Zhu LP;  Qian HJ;  Su R;  Hong CH;  Zhong J;  Ibrahim K;  Hu TD;  Cong, GW, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: gwcong@semi.ac.cn
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