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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang XB;  Wang XL;  Xiao HL;  Yang CB;  Hou QF;  Yin HB;  Chen H;  Wang ZG;  Zhang, XB, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Ctr Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. soffeezxb@163.com
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用于金属有机物化学沉积设备的扇形进气喷头 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010033960.X, 公开日期: 2011-08-31, 2011-08-31, 2011-08-31
发明人:  胡国新;  王晓亮;  冉军学;  肖红领;  殷海波;  张露;  李晋闽
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