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作者:  L. Zhang;   Y. N. Guo;   J. C. Yan;   Q. Q. Wu;   X. C. Wei;   J. X. Wang;   J. M. Li
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用于金属有机化学气相沉积设备的反应室进气装置 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2013-05-01
发明人:  冉军学;  胡强;  胡国新;  梁勇;  熊衍凯;  王军喜;  曾一平;  李晋闽
Adobe PDF(363Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：643/77  |  提交时间：2014/12/25
MOCVD设备反应室进气的气体混合与隔离装置 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2013-05-08
发明人:  冉军学;  胡强;  胡国新;  梁勇;  熊衍凯;  王军喜;  曾一平;  李晋闽
Adobe PDF(426Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：629/69  |  提交时间：2014/12/25
一种MOCVD设备中的石墨盘 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2016-10-25
发明人:  胡强;  李晋闽;  王军喜;  曾一平;  路红喜;  伊晓燕;  马平;  魏同波;  闫建昌;  纪攀峰
Adobe PDF(761Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：846/43  |  提交时间：2016/10/25