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利用准分子激光退火制作SiGe或Ge量子点的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-03-04, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  韩根全;  曾玉刚;  余金中
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利用UHV/CVD低温生长SiGe材料的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-03-04, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  韩根全;  曾玉刚;  余金中
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  成步文;  薛春来;  罗丽萍;  韩根全;  曾玉刚;  薛海韵;  王启明
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  王翠鸾;  韩淋;  吴芃;  刘媛媛;  李伟;  冯小明;  王勇刚;  刘素平;  马骁宇
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  仲莉;  王俊;  冯小明;  王勇刚;  王翠鸾;  韩琳;  崇锋;  刘素平;  马骁宇
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  马书懿;  张伯蕊;  秦国刚;  韩和相;  汪兆平;  李国华;  马振昌;  宗婉华
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  钟战天;  周小川;  杜全钢;  周鼎新;  吴荣汉;  王森;  李承芳;  於美云;  徐俊英;  朱勤生
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  钟战天;  周小川;  杜全钢;  李承芳;  周鼎新;  王森;  吴荣汉;  於美云;  徐俊英;  蒋健
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利用磁控溅射在石墨衬底上生长多晶硅薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910242346.1, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  施辉伟;  陈诺夫;  黄添懋;  尹志岗;  吴金良;  张汉
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在玻璃衬底上制备P型多晶硅薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910241692.8, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  黄添懋;  陈诺夫;  施辉伟;  尹志岗;  吴金良;  王彦硕;  汪宇;  张汉
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