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无权访问的条目 期刊论文
作者:  唐龙娟;  郑新和;  张东炎;  董建荣;  王辉;  杨辉
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在电子束曝光前对涂有光刻胶的晶片进行聚焦调节的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010102016.5, 公开日期: 2011-08-30
发明人:  王秀平;  杨晓红;  韩勤
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一种提高电子束曝光效率的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010201513.0, 公开日期: 2011-08-30
发明人:  王秀平;  杨晓红;  韩勤;  王杰;  刘少卿
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用于电子束光刻胶PMMA的显影液及其配制方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010101998.6, 公开日期: 2011-08-30
发明人:  王秀平;  杨晓红;  韩勤
Adobe PDF(2013Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：2512/125  |  提交时间：2011/08/30