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在GaAs衬底上制备金属纳米颗粒的方法; 在GaAs衬底上制备金属纳米颗粒的方法
刘雯; 王晓东; 程凯芳; 马慧丽; 王晓峰; 徐锐; 杨富华
Rights Holder中国科学院半导体研究所
Date Available2012-09-07 ; 2012-05-02 ; 2012-09-07
Country中国
Subtype发明
Abstract 本发明公开了一种在GaAs衬底上制备金属纳米颗粒的方法,该方法包括:在GaAs衬底正反面各淀积一层SiO2进行保护;在GaAs衬底的正面再蒸镀一层金属铝膜;将蒸镀有金属铝膜的GaAs衬底在阳极氧化浴槽中进行阳极氧化;将氧化后的GaAs衬底在磷酸溶液中腐蚀扩孔;采用Ar离子轰击完全去除阻挡层,得到完全通孔的阳极氧化铝模板;将表面制备有阳极氧化铝模板的GaAs衬底进行电子束蒸发金属填孔;以及去除表面的阳极氧化铝膜,在GaAs衬底表面得到均匀的金属纳米颗粒。利用本发明,避免了采用已制备好的阳极氧化铝模板转移到半导体材料衬底过程中模板易碎、模板与衬底之间接触不好、以及引入污染等问题。
metadata_83半导体集成技术工程研究中心
Application Date2011-12-26
Patent NumberCN102433529A
Language中文
Status公开
Application Number CN201110440640.0
Document Type专利
Identifierhttp://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23343
Collection半导体集成技术工程研究中心
Recommended Citation
GB/T 7714
刘雯,王晓东,程凯芳,等. 在GaAs衬底上制备金属纳米颗粒的方法, 在GaAs衬底上制备金属纳米颗粒的方法. CN102433529A.
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在GaAs衬底上制备金属纳米颗粒的方法.(3017KB) 限制开放LicenseApplication Full Text
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