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| 在电子束曝光前对涂有光刻胶的晶片进行聚焦调节的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010102016.5, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤
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| 一种提高电子束曝光效率的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010201513.0, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤; 王杰; 刘少卿
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| 一种制作可调谐共振腔增强型探测器中间P型电极的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010263067.6, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 王杰; 韩勤; 杨晓红 ; 王秀平; 刘少卿
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| 用于电子束光刻胶PMMA的显影液及其配制方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010101998.6, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤
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| 一种制作基于微光机电系统的波长可调谐滤波器的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200810225784.2, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 秦龙; 韩勤; 杨晓红; 朱彬; 鞠研玲; 李文兵
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