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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu JM;  Liu XL;  Li CM;  Wei HY;  Guo Y;  Jiao CM;  Li ZW;  Xu XQ;  Song HP;  Yang SY;  Zhu QS;  Wang ZG;  Yang AL;  Yang TY;  Wang HH;  Liu, JM, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. liujianming@semi.ac.cn;  xlliu@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Shi K;  Li DB;  Song HP;  Guo Y;  Wang J;  Xu XQ;  Liu JM;  Yang AL;  Wei HY;  Zhang B;  Yang SY;  Liu XL;  Zhu QS;  Wang ZG;  Shi, K, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. shikai@semi.ac.cn;  lidb@ciomp.ac.cn;  xlliu@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Xu XQ;  Guo Y;  Liu XL;  Liu JM;  Song HP;  Zhang BA;  Wang J;  Yang SY;  Wei HY;  Zhu QS;  Wang ZG;  Xu, XQ, Chinese Acad Sci, Key Lab Semicond Mat Sci, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. xxq@semi.ac.cn;  xlliu@semi.ac.cn;  qszhu@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Guo Y;  Liu XL;  Song HP;  Yang AL;  Xu XQ;  Zheng GL;  Wei HY;  Yang SY;  Zhu QS;  Wang ZG;  Guo, Y, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Tingshua E Rd 35,POB 912, Beijing 100083, Peoples R China.E-mail Address: guoyan@semi.ac.cn;  xlliu@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zheng GL;  Yang AL;  Wei HY;  Liu XL;  Song HP;  Guo;  Y;  Jia CH;  Jiao CM;  Yang SY;  Zhu QS;  Wang ZG;  Zheng, GL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail Address: zhenggl@semi.ac.cn;  xlliu@semi.ac.cn
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利用非极性ZnO缓冲层生长非极性InN薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010157517.3, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  郑高林;  杨安丽;  宋华平;  郭严;  魏鸿源;  刘祥林;  朱勤生;  杨少延;  王占国
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一种生长高质量富In组分InGaN薄膜材料的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010157637.3, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  郭严;  宋华平;  郑高林;  魏鸿源;  刘祥林;  朱勤生;  杨少延;  王占国
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