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金属有机物化学气相沉积装置 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2010-02-24, 2010-08-12
发明人:  段瑞飞;  王军喜;  王国宏;  曾一平;  李晋闽
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zeng C (Zeng Chang);  Zhang SM (Zhang Shu-Ming);  Ji L (Ji Lian);  Wang HB (Wang Huai-Bing);  Zhao DG (Zhao De-Gang);  Zhu JJ (Zhu Jian-Jun);  Liu ZS (Liu Zong-Shun);  Jiang DS (Jiang De-Sheng);  Cao Q (Cao Qing);  Chong M (Chong Ming);  Duan LH (Duan Li-Hong);  Wang H (Wang Hai);  Shi YS (Shi Yong-Sheng);  Liu SY (Liu Su-Ying);  Yang H (Yang Hui);  Chen LH (Chen Liang-Hui);  Zeng, C, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: smzhang@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Ji L (Ji Lian);  Zhang SM (Zhang Shu-Ming);  Jiang DS (Jiang De-Sheng);  Liu ZS (Liu Zong-Shun);  Zhang LQ (Zhang Li-Qun);  Zhu JJ (Zhu Jian-Jun);  Zhao DG (Zhao De-Gang);  Duan LH (Duan Li-Hong);  Yang H (Yang Hui);  Ji, L, Chinese Acad Sci, State Key Lab Integrated Optoelect, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: jilian@red.semi.ac.cn;  smzhang@red.semi.ac.cn
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