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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wei TB (Wei T. B.);  Hu Q (Hu Q.);  Duan RF (Duan R. F.);  Wei XC (Wei X. C.);  Yang JK (Yang J. K.);  Wang JX (Wang J. X.);  Zeng YP (Zeng Y. P.);  Wang GH (Wang G. H.);  Li JM (Li J. M.);  Wei, TB, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Semicond Lighting Technol Res & Dev Ctr, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: tbwei@semi.ac.cn
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用于金属有机气相沉积设备的进气喷头 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2012-07-04
发明人:  冉军学;  胡强;  梁勇;  胡国新;  王军喜;  曾一平;  李晋闽
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用于金属有机化学气相沉积设备的反应室进气装置 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2013-05-01
发明人:  冉军学;  胡强;  胡国新;  梁勇;  熊衍凯;  王军喜;  曾一平;  李晋闽
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MOCVD设备反应室进气的气体混合与隔离装置 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2013-05-08
发明人:  冉军学;  胡强;  胡国新;  梁勇;  熊衍凯;  王军喜;  曾一平;  李晋闽
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