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用于半导体激光器中光栅制作的腐蚀液及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-11-28, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  付生辉;  钟源;  陈良惠
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波长为852nm的分布反馈激光器的结构和制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-11-28, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  付生辉;  钟源;  陈良惠
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Li YT (Li Yun-Tao);  Yu JZ (Yu Jin-Zhong);  Chen YY (Chen Yuan-Yuan);  Sun F (Sun Fei);  Chen SW (Chen Shao-Wu);  Li, YT, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: ytli@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  杨笛;  余金中;  陈少武;  陈媛媛
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