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新型平面型DFB内光栅耦合结构制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2004-07-14, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  朱洪亮;  王圩;  刘国利;  张静媛
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Han XX;  Li DB;  Yuan HR;  Sun XH;  Liu XL;  Wang XH;  Zhu QS;  Wang ZG;  Han, XX, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: xxhan@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  余金中;  陈少武;  夏金松;  王章涛;  樊中朝;  李艳萍;  刘敬伟;  杨笛;  陈媛媛
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