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采用TEOS源PECVD生长氧化硅厚膜的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2002-03-27, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  雷红兵;  王红杰;  胡雄伟;  邓晓清;  王启明
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  张小峰;  余金中;  王启明;  魏红振
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  陈长勇;  陈维德;  王永谦;  宋淑芳;  许振嘉;  郭少令
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  王文青;  宋淑芳;  艾家和;  韩晓英;  赵金茹;  许宏飞;  史利军
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  邓晓清;  杨沁清;  王红杰;  胡雄伟;  王启明
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  余金中;  王杏华
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  邢藏菊;  曲延锋;  徐健;  王守觉
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  陈敦军;  毕朝霞;  沈波;  张开骁;  顾书林;  张荣;  施毅;  胡立群;  郑有（火+斗）;  孙学浩;  万寿科;  王占国
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  邓晓清;  杨沁清;  王红杰;  胡雄伟;  王启明
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  孙殿照;  王晓亮;  胡国新;  王军喜;  刘宏新;  刘成海;  曾一平;  李晋闽;  林兰英
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