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中国科学院半导体研究所机构知识库
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中国科学院半导体研究... [2]
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WOS被引频次降序
The fabrication of thick SiO2 layer by anodization
会议论文
OPTICAL MATERIALS, 14 (3), BEIJING, PEOPLES R CHINA, JUN 13-18, 1999
作者:
Ou HY
;
Yang QQ
;
Lei HB
;
Wang QM
;
Hu XW
;
Ou HY Chinese Acad Sci Inst Semicond State Key Lab Integrated Optoelect POB 912 Beijing 100083 Peoples R China.
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提交时间:2010/11/15
Thick Sio2 Layer
Porous Silicon
Sio2/si Waveguide Device
Wave-guides
Silicon
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Ou HY
;
Yang QQ
;
Lei HB
;
Wang QM
;
Hu XW
;
Ou HY,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,State Key Lab Integrated Optoelect,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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提交时间:2010/08/12