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中国科学院半导体研究所机构知识库
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低维金属硫族化合物的制备与光电性质研究
学位论文
, 北京: 中国科学院研究生院, 2015
作者:
范超
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提交时间:2015/05/26
低维金属硫族化合物
水热法
Cvd法
Mose2
Mos2
Sns2
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Zhao L
;
Diao HW
;
Zeng XB
;
Zhou CL
;
Li HL
;
Wang WJ
;
Zhao, L, Chinese Acad Sci, Inst Elect Engn, Solar Cell Technol Grp, Key Lab Solar Thermal Energy & Photovolta Syst, Beijing 100190, Peoples R China. E-mail Address: zhaolei@mail.iee.ac.cn
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提交时间:2010/04/04
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Xue HY (Xue Hai-Yun)
;
Xue CL (Xue Chun-Lai)
;
Cheng BW (Cheng Bu-Wen)
;
Yu YD (Yu Yu-De)
;
Wang QM (Wang Qi-Ming)
;
Xue, HY, Chinese Acad Sci, State Key Lab Integrated Optoelect, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: xuehy@semi.ac.cn
;
cbw@semi.ac.cn
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提交时间:2010/11/01
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Li, J
;
Wang, RZ
;
Lan, W
;
Zhang, XW
;
Duan, ZQ
;
Wang, B
;
Yan, H
;
Li, J, Beijing Univ Technol, Coll Mat Sci & Engn, Lab Thin Film Mat, Beijing 100124, Peoples R China. 电子邮箱地址: wrz@bjut.edu.cn
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浏览/下载:923/216
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提交时间:2010/03/08
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Gu JH (Gu Jinhua)
;
Zhu MF (Zhu Meifang)
;
Wang LJ (Wang Liujiu)
;
Liu FZ (Liu Fengzhen)
;
Zhou BQ (Zhou Bingqing)
;
Ding K (Ding Kun)
;
Li GH (Li Guohua)
;
Zhu, MF, Chinese Acad Sci, Grad Sch, Coll Phys Sci, POB 4588, Beijing 100049, Peoples R China. E-mail: mfzhu@gucas.ac.cn
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浏览/下载:1040/332
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提交时间:2010/04/11
Homoepitaxial growth and characterization of 4H-SiC epilayers by low-pressure hot-wall chemical vapor deposition
会议论文
Silicon Carbide and Related Materials 2005丛书标题: MATERIALS SCIENCE FORUM, Pittsburgh, PA, SEP 18-23, 2005
作者:
Sun, GS (Sun, Guosheng)
;
Ning, J (Ning, Jin)
;
Gong, QC (Gong, Quancheng)
;
Gao, X (Gao, Xin)
;
Wang, L (Wang, Lei)
;
Liu, XF (Liu, Xingfang)
;
Zeng, YP (Zeng, Yiping)
;
Li, JM (Li, Jinmin)
;
Sun, GS, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China.
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浏览/下载:1535/203
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提交时间:2010/03/29
Homoepitaxial Growth
Low-pressure Hot-wall Cvd
Structural And Optical Characteristics
Intentional Doping
Schottky Barrier Diodes
Optical and structural properties of ZnO films grown on Si(100) substrates by MOCVD - art. no. 60290G
会议论文
ICO20 MATERIALS AND NANOSTRUCTURES丛书标题: PROCEEDINGS OF THE SOCIETY OF PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS (SPIE), Changchun, PEOPLES R CHINA, AUG 21-26, 2005
作者:
Shen, WJ
;
Duan, Y
;
Wang, J
;
Wang, QY
;
Zeng, YP
;
Shen, WJ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Ctr Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China.
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浏览/下载:1831/615
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提交时间:2010/03/29
Zno
Mocvd
Thermal Annealing
Photoluminescence
X-ray Diffraction
Atomic Force Microscopy
Pulsed-laser Deposition
Thin-films
Photoluminescence
Mechanisms
Epitaxy
Cvd
Si
Homoepitaxial growth and MOS structures of 4H-SiC on off oriented n-type (0001)Si-faces
会议论文
2004 7TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SOLID-STATE AND INTEGRATED CIRCUITS TECHNOLOGY, Beijing, PEOPLES R CHINA, OCT 18-21, 2004
作者:
Sun, GS
;
Ning, J
;
Zhang, YX
;
Gao, X
;
Wang, L
;
Zhao, WS
;
Zeng, YP
;
Li, JM
;
Sun, GS, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China.
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浏览/下载:1619/208
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提交时间:2010/03/29
4h-sic
Lpcvd Homoepitaxial Growth
Thermal Oxidization
Mos Structures
Hot-wall Cvd
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Wang LJ
;
Zhu MF
;
Liu FZ
;
Liu JL
;
Han YQ
;
Wang LJ,Chinese Acad Sci,Dept Phys,Grad Sch,Beijing 100039,Peoples R China.
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浏览/下载:922/241
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提交时间:2010/08/12
In situ doping of 3C-SiC grown on (0001) sapphire substrates by LPCVD
会议论文
SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2001, PTS 1 AND 2, PROCEEDINGS, 389-3, TSUKUBA, JAPAN, OCT 28-NOV 02, 2001
作者:
Sun GS
;
Luo MC
;
Wang L
;
Zhu SR
;
Li JM
;
Zeng YP
;
Lin LY
;
Sun GS Chinese Acad Sci Inst Semicond Beijing 100083 Peoples R China.
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浏览/下载:1672/300
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提交时间:2010/11/15
3c-sic
In-situ Doping
Low-pressure Cvd
Sapphire Substrate
Chemical-vapor-deposition
Competition Epitaxy