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中国科学院半导体研究所机构知识库
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作者:
Lu SL (Lu, Shulong)
;
Nosho H (Nosho, Hidetaka)
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Tackeuchi A (Tackeuchi, Atsushi)
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Bian LF (Bian, Lifeng)
;
Dong JR (Dong, Jianrong)
;
Niu ZC (Niu, Zhichuan)
;
Lu, SL, Waseda Univ, Dept Appl Phys, Shinjuku Ku, Tokyo 1698555, Japan. 电子邮箱地址: sllu2008@sinano.ac.cn
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期刊论文
作者:
Lu SL
;
Bian LF
;
Uesugi M
;
Nosho H
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Tackeuchi A
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Lu, SL, Waseda Univ, Dept Appl Phys, Tokyo 1698555, Japan. 电子邮箱地址: sllu@waseda.jp
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提交时间:2010/03/08