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High epitaxial growth rate of 4H-SiC using TCS as silicon precursor 会议论文
2008 9TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SOLID-STATE AND INTEGRATED-CIRCUIT TECHNOLOGY, Beijing, PEOPLES R CHINA, OCT 20-23, 2008
作者:  Ji, G;  Sun, GS;  Ning, J;  Liu, XF;  Zhao, YM;  Wang, L;  Zhao, WS;  Zeng, YP;  Ji, G, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China.
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