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中国科学院半导体研究所机构知识库
Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
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Homoepitaxial growth and characterization of 4H-SiC epilayers by low-pressure hot-wall chemical vapor deposition
会议论文
Silicon Carbide and Related Materials 2005丛书标题: MATERIALS SCIENCE FORUM, Pittsburgh, PA, SEP 18-23, 2005
作者:
Sun, GS (Sun, Guosheng)
;
Ning, J (Ning, Jin)
;
Gong, QC (Gong, Quancheng)
;
Gao, X (Gao, Xin)
;
Wang, L (Wang, Lei)
;
Liu, XF (Liu, Xingfang)
;
Zeng, YP (Zeng, Yiping)
;
Li, JM (Li, Jinmin)
;
Sun, GS, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China.
Adobe PDF(981Kb)
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浏览/下载:1535/203
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提交时间:2010/03/29
Homoepitaxial Growth
Low-pressure Hot-wall Cvd
Structural And Optical Characteristics
Intentional Doping
Schottky Barrier Diodes
The ICP etching technology of 3C-SiC films
会议论文
INTERNATIONAL MEMS CONFERENCE 2006, 34: 511-515 2006, Singapore, SINGAPORE, MAY 09-12, 2006
作者:
Ning J (Ning Jin)
;
Gong QC (Gong Quancheng)
;
Sun GS (Sun Guosheng)
;
Liu ZL (Liu Zhongli)
Adobe PDF(325Kb)
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提交时间:2011/07/14
无权访问的条目
期刊论文
作者:
SUN Guosheng
;
WANG Lei
;
GONG Quancheng
;
GAO Xin
;
LIU Xingfang
;
ZENG Yiping
;
LI JinminL
Adobe PDF(712Kb)
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提交时间:2010/11/23
无权访问的条目
期刊论文
作者:
SUN Guosheng
;
NING Jin
;
GAO Xin
;
GONG Quancheng
;
WANG Lei
;
LIU Xingfang
;
ZENG Yiping
;
LI Jinmin
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提交时间:2010/11/23