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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yin, ZG;  Zhang, XW;  Fu, Z;  Yang, XL;  Wu, JL;  Wu, GS;  Gong, L;  Chu, PK
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Peng YC;  Fu GS;  Yu W;  Li SQ;  Wang YL;  Peng, YC, Hebei Univ, Coll Elect & Informat Engn, Baoding 071002, Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Peng YC;  Zhao XW;  Fu GS;  Peng YC,Hebei Univ,Coll Elect & Informat Engn,Baoding 071002,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  金光生;  艾合买提·阿不力孜;  李树深;  牛智川;  杨富华;  封松林
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基于差分方法的MEMS器件信号检测电路 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010564525.X, 公开日期: 2011-08-31, 2011-08-31, 2011-08-31
发明人:  韩国威;  宁瑾;  孙国胜;  赵永梅;  杨富华
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沟道型碳化硅肖特基二极管及其制作方法 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2012-10-10
发明人:  何志;  张峰;  樊中朝;  赵咏梅;  孙国胜;  季安;  杨富华
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一种H2微刻蚀进行碳化硅离子激活的方法 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2016-08-30
发明人:  刘胜北;  何志;  刘斌;  刘兴昉;  杨香;  樊中朝;  王晓峰;  王晓东;  赵永梅;  杨富华;  孙国胜;  曾一平
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一种碳化硅欧姆接触电极及其制作方法 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2016-09-29
发明人:  刘胜北;  何志;  刘斌;  杨香;  刘兴昉;  张峰;  王雷;  田丽欣;  刘敏;  申占伟;  赵万顺;  樊中朝;  王晓峰;  王晓东;  赵永梅;  杨富华;  孙国胜;  曾一平
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一种去除碳化硅等离子体刻蚀形成的刻蚀损伤层的方法 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2016-09-28
发明人:  刘胜北;  何志;  刘斌;  刘兴昉;  杨香;  樊中朝;  王晓峰;  王晓东;  赵永梅;  杨富华;  孙国胜;  曾一平
Adobe PDF(568Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:673/3  |  提交时间:2016/09/28