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HfO2铁电层和硅纳米线的缺陷性质研究 学位论文
, 中国科学院半导体研究所: 中国科学院大学, 2024
作者:  张才鑫
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Junzhan Wang;  Satyaprasad P. Senanayak;  Jie Liu;  Yuanyuan Hu;  Yanjun Shi;  Zelun Li;  Caixin Zhang;  Bingyan Yang;  Longfeng Jiang;  Dawei Di;  Anton V. Ievlev;  Olga S. Ovchinnikova;  Tao Ding;  Huixiong Deng;  Liming Tang;  Yunlong Guo;  Jianpu Wang;  Kai Xiao;  Deepak Venkateshvaran
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