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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Cui, Can;   Wang, Zhi;   Zhan, Xiangkong;   Wang, Huiying;   Wang, Jian;   Liu, Lanlan;   Li, Zhiyong;   Wu, Chongqing
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Huiying Wang ;   Zhi Wang ;   Hangtian Li ;   Xiangkong Zhan ;   Can Cui ;   Ziling Fu ;   Zhiyong Li ;   Lanlan Liu ;   Chongqing Wu
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Xuan Zhan;   Zhengfeng Wu;   Dehui Lai;   Jing Wang ;   Huiying Xu, Member, IEEE;   Kaijun Che , Member, IEEE;   Yongzhen Huang ,Senior Member, IEEE;   Zhiping Cai
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Study of molecular-beam epitaxy growth on patterned GaAs (1 0 0) substrates by masked indium ion implantation 会议论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 318 (1): 572-575, Beijing, PEOPLES R CHINA, AUG 08-13, 2010
作者:  阎Zhou HY (Zhou Huiying);  Qu SC (Qu Shengchun);  Jin P (Jin Peng);  Xu B (Xu Bo);  Ye XL (Ye Xiaoling);  Liu JP (Liu Junpeng);  Wang ZG (Wang Zhanguo)
Adobe PDF(584Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：2672/490  |  提交时间：2011/07/17
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhou HY (Zhou Huiying);  Qu SC (Qu Shengchun);  Liao SZ (Liao Shuzhi);  Zhang FS (Zhang Fasheng);  Liu JP (Liu Junpeng);  Wang ZG (Wang Zhanguo)
Adobe PDF(224Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1279/266  |  提交时间：2010/08/17
以二氧化硅为掩模定位生长量子点的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-12-03, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  任芸芸;  徐波;  周惠英;  刘明;  李志刚;  王占国
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在半导体衬底上制备有序砷化铟量子点的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-08-13, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  周慧英;  曲胜春;  金鹏;  徐波;  王赤云;  刘俊朋;  王智杰;  王占国
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在半导体衬底上制备量子环结构的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-08-13, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  周慧英;  曲胜春;  鹏;  徐波;  王赤云;  刘俊朋;  王占国
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在半导体衬底上制备均匀有序量子结构的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-07-02, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  周慧英;  曲胜春;  王占国
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Cheng BC (Cheng Baochang);  Qu SC (Qu Shengchun);  Zhou HY (Zhou Huiying);  Wang ZG (Wang Zhanguo);  Cheng, BC, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: bcheng@vip.sina.com
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