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InGaAs低阈值垂直腔面发射激光器的研制 学位论文
, 北京: 中国科学院半导体研究所, 1996
作者:  梁永
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一种化学气相沉积装置 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010162506.4, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  段瑞飞;  曾一平;  王军喜;  冉军学;  胡国新;  羊建坤;  梁勇;  路红喜;  李晋闽
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一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010269018.3, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  冉军学;  胡国新;  梁勇;  王军喜;  段瑞飞;  曾一平;  李晋闽
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用于金属化学气相沉积设备反应室的进气喷淋头 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN102492937A, 公开日期: 2012-08-29, 2012-08-29, 2012-08-29
发明人:  冉军学;  胡强;  梁勇;  胡国新;  王军喜;  曾一平;  李晋闽
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用于金属有机气相沉积设备的进气喷头 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2012-07-04
发明人:  冉军学;  胡强;  梁勇;  胡国新;  王军喜;  曾一平;  李晋闽
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用于金属有机化学气相沉积设备的反应室进气装置 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2013-05-01
发明人:  冉军学;  胡强;  胡国新;  梁勇;  熊衍凯;  王军喜;  曾一平;  李晋闽
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MOCVD设备反应室进气的气体混合与隔离装置 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2013-05-08
发明人:  冉军学;  胡强;  胡国新;  梁勇;  熊衍凯;  王军喜;  曾一平;  李晋闽
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