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| InGaAs低阈值垂直腔面发射激光器的研制 学位论文 , 北京: 中国科学院半导体研究所, 1996 作者: 梁永 Adobe PDF(1519Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:906/40  |  提交时间:2009/04/13 |
| 一种化学气相沉积装置 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN201010162506.4, 公开日期: 2011-08-31 发明人: 段瑞飞; 曾一平; 王军喜; 冉军学; 胡国新; 羊建坤; 梁勇; 路红喜; 李晋闽 Adobe PDF(392Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1799/272  |  提交时间:2011/08/31 |
| 一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN201010269018.3, 公开日期: 2011-08-31 发明人: 冉军学; 胡国新; 梁勇; 王军喜; 段瑞飞; 曾一平; 李晋闽 Adobe PDF(756Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1519/250  |  提交时间:2011/08/31 |
| 用于金属化学气相沉积设备反应室的进气喷淋头 专利 专利类型: 发明, 专利号: CN102492937A, 公开日期: 2012-08-29, 2012-08-29, 2012-08-29 发明人: 冉军学; 胡强; 梁勇; 胡国新; 王军喜; 曾一平; 李晋闽 Adobe PDF(573Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:2128/450  |  提交时间:2012/08/29 |
| 用于金属有机气相沉积设备的进气喷头 专利 专利类型: 发明, 公开日期: 2012-07-04 发明人: 冉军学; 胡强; 梁勇; 胡国新; 王军喜; 曾一平; 李晋闽 Adobe PDF(1437Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:822/42  |  提交时间:2014/10/31 |
| 用于金属有机化学气相沉积设备的反应室进气装置 专利 专利类型: 发明, 公开日期: 2013-05-01 发明人: 冉军学; 胡强; 胡国新; 梁勇; 熊衍凯; 王军喜; 曾一平; 李晋闽 Adobe PDF(363Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:873/77  |  提交时间:2014/12/25 |
| MOCVD设备反应室进气的气体混合与隔离装置 专利 专利类型: 发明, 公开日期: 2013-05-08 发明人: 冉军学; 胡强; 胡国新; 梁勇; 熊衍凯; 王军喜; 曾一平; 李晋闽 Adobe PDF(426Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:779/69  |  提交时间:2014/12/25 |