Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
图形衬底上生长碳化硅厚膜的方法 | |
赵永梅; 孙国胜; 刘兴昉; 王 亮; 王 雷; 赵万顺; 李晋闽; 曾一平 | |
2009-05-27 | |
专利权人 | 中科院半导体研究所 |
公开日期 | 3996 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
申请日期 | 2007-11-21 |
语种 | 中文 |
专利状态 | 公开 |
申请号 | CN200710177781.1 |
专利代理人 | 汤宝平 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/9150 |
专题 | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵永梅,孙国胜,刘兴昉,等. 图形衬底上生长碳化硅厚膜的方法[P]. 2009-05-27. |
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