Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
一种在砷化镓衬底上外延生长锑化镓的方法 | |
郝瑞亭; 周志强; 任正伟; 徐应强; 牛智川 | |
2008-03-26 | |
公开日期 | 2009-06-04 ; 2009-06-11 |
专利类型 | 发明 |
申请日期 | 2006-09-18 |
语种 | 中文 |
申请号 | 200610152201 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/4051 |
专题 | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 郝瑞亭,周志强,任正伟,等. 一种在砷化镓衬底上外延生长锑化镓的方法[P]. 2008-03-26. |
条目包含的文件 | ||||||
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200610152201.pdf(753KB) | 限制开放 | -- | 请求全文 |
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