Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
可提高砷化铝氧化均匀性的外延片承载装置 | |
佟存柱; 牛智川; 韩勤; 杜云; 吴荣汉 | |
2006-05-03 | |
公开日期 | 2009-06-04 ; 2009-06-11 |
专利类型 | 实用新型 |
申请日期 | 2004-12-02 |
语种 | 中文 |
申请号 | CN200420009923.5 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/3333 |
专题 | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 佟存柱,牛智川,韩勤,等. 可提高砷化铝氧化均匀性的外延片承载装置[P]. 2006-05-03. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
200420009923.pdf(264KB) | 限制开放 | -- | 请求全文 |
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