Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
选择区域外延生长叠层电吸收调制激光器结构的制作方法 | |
朱洪亮; 李宝霞; 张靖; 王圩 | |
2006-03-22 | |
公开日期 | 2009-06-04 ; 2009-06-11 |
专利类型 | 发明 |
申请日期 | 2005-01-18 |
语种 | 中文 |
申请号 | CN200510004571.3 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/3199 |
专题 | 中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱洪亮,李宝霞,张靖,等. 选择区域外延生长叠层电吸收调制激光器结构的制作方法[P]. 2006-03-22. |
条目包含的文件 | ||||||
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200510004571.pdf(649KB) | 限制开放 | -- | 请求全文 |
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