一种用于低能离子束材料制备方法的离子源装置
杨少延; 刘志凯; 柴春林; 蒋渭生
2005-06-29
公开日期2009-06-04 ; 2009-06-11
专利类型发明
申请日期2003-12-22
语种中文
申请号CN200310121178.3
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/2793
专题中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
杨少延,刘志凯,柴春林,等. 一种用于低能离子束材料制备方法的离子源装置[P]. 2005-06-29.
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