SEMI OpenIR  > 半导体集成技术工程研究中心
晶圆级光刻机键合方法
毛旭; 赵永梅; 杨香; 黄亚军; 季安; 白云霞; 王晓东; 杨富华
专利权人中国科学院半导体所
公开日期2016-09-22
授权国家中国
专利类型发明
学科领域半导体器件
申请日期2015-06-15
申请号CN201510326079.1
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27544
专题半导体集成技术工程研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
毛旭,赵永梅,杨香,等. 晶圆级光刻机键合方法.
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