| 直接在Si衬底上自催化生长InAsSb纳米线的方法 | |
| 杜文娜; 杨晓光; 王小耶; 杨涛; 王占国 | |
| 专利权人 | 中国科学院半导体研究所 |
| 公开日期 | 2014-07-23 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明 |
| 学科领域 | 半导体材料 |
| 申请日期 | 2014-04-21 |
| 申请号 | CN201410160279.X |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25707 |
| 专题 | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杜文娜,杨晓光,王小耶,等. 直接在Si衬底上自催化生长InAsSb纳米线的方法. |
| 条目包含的文件 | ||||||
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| 直接在Si衬底上自催化生长InAsSb纳（867KB） | 限制开放 | 使用许可 | 请求全文 | |||
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