SEMI OpenIR  > 光电子研究发展中心
非晶硅与多晶硅薄膜界面钝化及制备SPA结构HIT电池的方法
李浩; 曾湘波; 谢小兵; 杨萍; 李敬彦; 张晓东; 王启明
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2013-08-21
授权国家中国
专利类型发明
学科领域光电子学
申请日期2013-05-02
申请号CN201310157617.X
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25627
专题光电子研究发展中心
推荐引用方式
GB/T 7714
李浩,曾湘波,谢小兵,等. 非晶硅与多晶硅薄膜界面钝化及制备SPA结构HIT电池的方法.
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非晶硅与多晶硅薄膜界面钝化及制备SPA结(402KB) 限制开放使用许可请求全文
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