| 用于金属有机物化学沉积设备的衬托盘及其制作工艺 |
| 殷海波 ; 王晓亮; 胡国新; 冉军学; 肖红领; 张露; 李晋闽
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| 专利权人 | 中国科学院半导体研究所
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| 公开日期 | 2011-08-31
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| 授权国家 | 中国
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| 专利类型 | 发明
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| 摘要 | 本发明公开了一种用于金属有机物化学沉积设备的衬托盘的制作工艺，包括以下步骤：在纯度≥98％、平均粒径0.5μm以下、具有流动性的碳化硅微粉中添加烧结助剂，采用干式混合法形成混合物；采用干压成型工艺压制成型以形成坯体；对坯体进行高温真空烧结；对烧结后的坯体磨削加工以形成衬托盘。本发明还涉及一种采用上述工艺制作而成的用于金属有机物化学沉积设备的衬托盘。 |
| 部门归属 | 半导体材料科学中心
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| 专利号 | CN201010033965.2
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| 语种 | 中文
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| 专利状态 | 公开
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| 申请号 | CN201010033965.2
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| 专利代理人 | 王新华
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22313
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| 专题 | 半导体材料科学中心
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
殷海波,王晓亮,胡国新,等. 用于金属有机物化学沉积设备的衬托盘及其制作工艺. CN201010033965.2.
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