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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Huang TM (Huang TianMao);  Chen NF (Chen NuoFu);  Zhang XW (Zhang XingWang);  Bai YM (BaiYiMing);  Yin ZG (Yin ZhiGang);  Shi HW (Shi HuiWei);  Zhang H (Zhang Han);  Wang Y (Wang Yu);  Wang YS (Wang YanShuo);  Yang XL (Yang XiaoLi);  Huang, TM, Chinese AcadSci, InstSemicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: tmhuang@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang YS (Wang YanShuo);  Chen NF (Chen NuoFu);  Zhang XW (Zhang XingWang);  Bai;  YM (Bai YiMing);  Wang Y (Wang Yu);  Huang TM (Huang TianMao);  Zhang H (Zhang Han);  Shi HW (Shi HuiWei);  Wang, YS, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: yswang@semi.ac.cn;  nfchen@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang H (Zhang Han);  Chen NF (Chen NuoFu);  Wang Y (Wang Yu);  Zhang XW (Zhang XingWang);  Yin ZG (Yin ZhiGang);  Shi HW (Shi HuiWei);  Wang YS (Wang YanSuo);  Huang TM (Huang TianMao);  Bai YM (Bai YiMing);  Fu Z (Fu Zhen)
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石墨衬底上多晶硅薄膜的制备及表征 学位论文
, 北京: 中国科学院研究生院, 2010
作者:  施辉伟
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  黄添懋;  陈诺夫;  张兴旺;  白一鸣;  尹志岗;  施辉伟;  张汉;  汪宇;  王彦硕;  杨晓丽
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利用磁控溅射在石墨衬底上生长多晶硅薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910242346.1, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  施辉伟;  陈诺夫;  黄添懋;  尹志岗;  吴金良;  张汉
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在玻璃衬底上制备P型多晶硅薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910241692.8, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  黄添懋;  陈诺夫;  施辉伟;  尹志岗;  吴金良;  王彦硕;  汪宇;  张汉
Adobe PDF(242Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:1576/254  |  提交时间:2011/08/31