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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yang XG;  Yang T;  Wang KF;  Ji HM;  Ni HQ;  Niu ZC;  Wang ZG;  Yang, XG, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. tyang@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yang XG;  Yang T;  Wang KF;  Gu YX;  Ji HM;  Xu PF;  Ni HQ;  Niu ZC;  Wang XD;  Chen YL;  Wang ZG;  Yang, T, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China. tyang@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Xu PF;  Yang T;  Ji HM;  Cao YL;  Gu YX;  Wang ZG;  Xu, PF, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China. tyang@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Gu YX;  Yang T;  Ji HM;  Xu PF;  Wang ZG;  Yang, T, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. tyang@semi.ac.cn
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提高半导体激光器温度稳定性的腔面镀膜方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010191207.3, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  徐鹏飞;  杨涛
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