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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang BA;  Song HP;  Wang J;  Jia CH;  Liu JM;  Xu XQ;  Liu XL;  Yang SY;  Zhu QS;  Wang ZG;  Zhang, BA, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. zhangbiao@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wei, XC;  Zhao, YW;  Dong, ZY;  Li, JM;  Wei, XC, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: xcwei@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Jia CH;  Chen YH;  Liu GH;  Liu XL;  Yang SY;  Wang ZG;  Chen YH Chinese Acad Sci Inst Semicond Key Lab Semicond Mat Sci POB 912 Beijing 100083 Peoples R China. E-mail Address: yhchen@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Tangring, I (Tangring, I.);  Wang, SM (Wang, S. M.);  Sadeghi, M (Sadeghi, M.);  Larsson, A (Larsson, A.);  Wang, XD (Wang, X. D.);  Tangring, I, Chalmers, Dept Microtechnol & Nanosci, S-41296 Gothenburg, Sweden. 电子邮箱地址: ivar.tangring@mc2.chalmers.se
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zuo R (Zuo Ran);  Zhang H (Zhang Hong);  Liu XL (Liu Xiang-lin);  Zuo, R, Jiangsu Univ, Sch Energy & Power Engn, Zhenjiang 212013, Jiangsu, Peoples R China. E-mail: rzuo@ujs.edu.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Huang Y (Huang Y.);  Wang H (Wang H.);  Sun Q (Sun Q.);  Chen J (Chen J.);  Li DY (Li D. Y.);  Zhang JC (Zhang J. C.);  Wang JF (Wang J. F.);  Wang YT (Wang Y. T.);  Yang H (Yang H.);  Wang, H, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: wangh@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu LF;  Chen NF;  Wang Y;  Yin ZG;  Yang F;  Chai CL;  Zhang X;  Liu, LF, Peking Univ, Inst Microelect, Beijing 100871, Peoples R China. E-mail: lfliu@ime.pku.edu.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhao Q;  Pan JQ;  Zhang J;  Zhu HL;  Wang W;  Zhao, Q, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: qzhao@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Hou LP;  Zhu HL;  Zhou F;  Wang BJ;  Bian J;  Wang W;  Hou, LP, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Natl Res Ctr Optoelect Technol, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: houlp@red.semi.ac.cn
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High-performance EML grown on taper-masked pattern substrates by ultra-low-pressure MOCVD 会议论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, Singapore, SINGAPORE, JUL 03-08, 2005
作者:  Zhao, Q;  Pan, JQ;  Zhang, J;  Zhu, HL;  Wang, W;  Zhao, Q, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: qzhao@red.semi.ac.cn
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