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借助保护层的取样光栅的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2010-01-13, 2010-08-12
发明人:  王 桓;  阚 强;  周 帆;  王宝君;  朱洪亮
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用于半导体器件中的取样光栅的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2009-12-16, 2010-08-12
发明人:  王 桓;  王宝君;  朱洪亮
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhao DG (Zhao De-Gang);  Zhang S (Zhang Shuang);  Liu WB (Liu Wen-Bao);  Hao XP (Hao Xiao-Peng);  Jiang DS (Jiang De-Sheng);  Zhu JJ (Zhu Jian-Jun);  Liu ZS (Liu Zong-Shun);  Wang H (Wang Hui);  Zhang SM (Zhang Shu-Ming);  Yang H (Yang Hui);  Wei L (Wei Long);  Zhao, DG, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: dgzhao@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  刘扬;  潘教青;  王宝军;  边静;  安欣;  赵玲娟
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  朱洪亮;  许晓冬;  王桓;  孔端花;  梁松;  王宝军;  赵玲娟;  王圩
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