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| 借助保护层的取样光栅的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2010-01-13, 2010-08-12
发明人: 王 桓; 阚 强; 周 帆; 王宝君; 朱洪亮
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| 用于半导体器件中的取样光栅的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2009-12-16, 2010-08-12
发明人: 王 桓; 王宝君; 朱洪亮
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Kong DH (Kong D. H.); Zhu HL (Zhu H. L.); Liang S (Liang S.); Zhao XF (Zhao X. F.); Lou CX (Lou C. X.); Wang L (Wang L.); Wang BJ (Wang B. J.); Zhao LJ (Zhao L. J.)
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Wang W (Wang Wei); Huang BJ (Huang Bei-Ju); Dong Z (Dong Zan); Liu HJ (Liu Hai-Jun); Zhang X (Zhang Xu); Guan N (Guan Ning); Chen J (Chen Jin); Guo WL (Guo Wei-Lian); Niu PJ (Niu Ping-Juan); Chen HD (Chen Hong-Da); Wang, W, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Integrated Optoelect, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: wangweiww33@semi.ac.cn
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 刘扬; 潘教青 ; 王宝军; 边静; 安欣; 赵玲娟
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 朱洪亮; 许晓冬; 王桓; 孔端花; 梁松; 王宝军; 赵玲娟; 王圩
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