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碳化硅衬底氮化镓高电子迁移率晶体管及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-07-25, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  胡国新;  马志勇;  冉学军;  王翠敏;  肖红领;  王军喜;  李建平;  曾一平;  李晋闽
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang XY (Wang, Xiaoyan);  Wang XL (Wang, Xiaoliang);  Hu GX (Hu, Guoxin);  Wang BZ (Wang, Baozhu);  Ma ZY (Ma, Zhiyong);  Xiao HL (Xiao, Hongling);  Wang CM (Wang, Cuimei);  Ran JX (Ran, Junxue);  Li JP (Li, Jianping);  Wang, XY, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: xywang@mail.semi.ac.cn
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GaN 基HEMT 材料的MOCVD 生长及器件应用研究 学位论文
, 北京: 中国科学院半导体研究所, 2007
作者:  马志勇
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang XL (Wang Xiaoliang);  Hu GX (Hu Guoxin);  Ma ZY (Ma Zhiyong);  Ran JX (Ran Junxue);  Wang CM (Wang Cuimei);  Mao HL (Mao Hongling);  Tang H (Tang Han);  Li HP (Li Hanping);  Wang JX (Wang Junxi);  Zeng YP (Zeng Yiping);  Jinmin LM (Li Jinmin);  Wang ZG (Wang Zhanguo);  Wang, XL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: xlwang@red.semi.ac.cn
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